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      • UNIXX S 30 D顯影機

        UNIXX S 30 D 顯影機是應用于顯影工藝的設備,適用的基板尺寸為2英寸到12英寸的 圓片和最大到9英寸x9英寸的方片。新設計的三片式可拆卸工藝腔體可實現良好的工藝 均勻性和重復性,設備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 30 D的落地式柜體經專門設計,方便操作和維修。它是一款手動顯影機,適 用于實驗室開展科學研究和技術開發。設備具有多選項(例如可編程流體輸送臂)并且 可以升級成自動化

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        更新日期:2023-11-13
      • UNIXX S 20 D顯影機

        UNIXX S 20 D 顯影機是應用于顯影工藝的設備,適用的基板尺寸最大到8英寸的圓片 和最大到6英寸x6英寸的方片。新設計的三片式可拆卸工藝腔體可實現良好的工藝均勻 性和重復性,設備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 20 D的落地式柜體經專門設計,方便操作和維修。它是一款手動顯影機,適 用于實驗室開展科學研究和技術開發。設備具有多選項(例如可編程流體輸送臂)并且 可以升級成自動化的系統

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      • LCS半自動旋涂顯影刻蝕機

        LCS專為晶圓和平面基片的半自動旋涂和開發而設計,將是試點項目、研究所和研發的*。 它保證了高均勻性和可重復性以及簡單的操作和維護。 它可以處理最大 150 毫米的晶圓或最大 125x125 毫米的方形基片。

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      • SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統

        SCS112型是一款高效率手動型的濕法顯影掩膜版清洗系統,專門設計用于在劃片或劃片后清洗晶片,針對8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案,針對10英寸晶圓片。

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        更新日期:2023-11-13
      • CESx124UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統

        UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統CESx124、126、128或133是理想選擇,可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底,不論是從小直徑還是非常大直徑。

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        更新日期:2023-11-13
      • WS-1000MLaurell-WS半導體濕法刻蝕系列

        自1985年起,Laurell公司向遍布所有的生物化工和半導體材料科研領域的實驗室提供表面涂敷工藝的解決方案,目前,*有超過15000套系統正在安全運行。WS-1000M Laurell-WS半導體濕法刻蝕系列,全白色聚丙烯構造,可內置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機,排放簡便的入氮口和DI噴頭,如果需要單工的系統,可選擇WS-1000濕法刻蝕設備,WS-1000系列旋轉處理濕法設備可以

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        更新日期:2023-11-12
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