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      • EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC勻膠顯影機

        Laurell-EDC勻膠顯影機系列勻膠顯影系統適用于半導體前段制程的勻膠,顯影,刻蝕,沖洗,甩干等工藝,可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕,我們有著近三十年半導體濕法工藝的經驗積累,通過對各路試劑注射的控制,對氮氣和去離子水綜合應用,能夠完整實現樣片的干進干出。是當今*和經濟的濕法處理解決方案。

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        產品價格:面議
        廠商性質:代理商
        更新日期:2023-11-12
      • EDC-650Hz-8NPPBLaurell勻膠顯影機EDC

        Laurell勻膠顯影機EDC產于美國,是原裝的濕法刻蝕設備美國Laurell,Inc總部位于美國賓夕法尼亞,成立于1985年,是一家專業提供化工半導體材料清潔涂敷處理等特殊工藝的公司。公司擁有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各類顯影系統,目前客戶已遍布。還有WS-1000濕法刻蝕設備,WS-1000m濕法刻蝕設備等多種半導體濕制成設備。

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        產品價格:面議
        廠商性質:代理商
        更新日期:2023-11-12
      • EDC-650Hz-23NPPBEDC濕法刻蝕顯影機

        EDC濕法刻蝕顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝,制版的表面顯影。

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        廠商性質:代理商
        更新日期:2023-11-12
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