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      • 2023

        12-24

        NOVASCAN紫外臭氧清洗機是一款高效、環保的清洗設備,廣泛應用于醫療、食品、飲料、生物制藥等行業。采用紫外光和臭氧雙重殺菌技術,能夠在短時間內有效去除各種表面的細菌、病毒、霉菌等微生物,保證生產環境的潔凈度和安全性。工作原理是利用高能紫外光對微生物進行破壞,使其失去繁殖能力,同時產生臭氧氣體,進一步氧化分解殘留在表面的有機物和無機物,達到清洗的目的。紫外光的波長范圍在200-400納米之間,具有很強的穿透力和殺菌能力,能夠在短時間內殺死各種微生物。臭氧是一種強氧化劑,具有...

      • 2023

        11-26

        WABASH平板硫化機是一種專業用于橡膠硫化的設備,廣泛應用于橡膠制品行業。為一種高效、可靠的橡膠硫化設備,具備高效硫化、穩定性、自動化控制和多功能性等特點。它在橡膠制品行業的汽車工業、電力工業和醫療器械等領域有著廣泛的應用。WABASH平板硫化機的特點:1.高效硫化:采用先進的技術和設計,能夠實現高效的橡膠硫化過程。其具有均勻的溫度分布和良好的壓力控制系統,確保橡膠制品在硫化過程中獲得高質量的硫化效果。2.穩定性:采用高品質的材料和制造工藝,具有穩定可靠的性能。它能夠長時間...

      • 2023

        10-22

        NXQ8000系列掩膜曝光機是一種高精度半導體生產設備,廣泛應用于集成電路、光學器件、MEMS等領域中。該設備采用了先進的激光直寫技術和精密光學系統,能夠實現高分辨率、高精度的掩模制作,有助于提高半導體芯片的制造質量和性能。主要采用激光直寫技術進行掩模制作,其原理基于光刻技術。激光束經過調制和放大后,通過精密的光學系統投射到掩模上,控制激光的強度和位置進行掩模繪制。通過多次重復的曝光和顯影步驟,最終得到高精度、高分辨率的掩模。NXQ8000系列掩膜曝光機的特點:1.高精度:采...

      • 2023

        9-24

        EDC-650顯影機是一種常見的醫學影像設備,用于對放射學膠片進行顯影處理。它在醫院、診所等醫療機構中廣泛應用,為醫生和放射技師提供清晰的影像結果,輔助他們做出準確的診斷。EDC-650顯影機設備原理與結構:1.外殼:通常采用金屬材質,具有良好的耐腐蝕性和防護性能。外殼內部設計有適當的開口,用于放置和取出膠片。2.X射線源:顯影機配備有X射線源,用于產生高能量的X射線束。X射線源通常由高壓電源和防護裝置組成,可以調節X射線的強度和時間,以滿足不同類型的膠片需求。3.顯影槽:顯...

      • 2023

        8-20

        MicroChem光刻膠是一種用于微納米制造的關鍵材料。它是一種可塑性高分子材料,廣泛應用于半導體、光學元件和微系統等領域。光刻膠具有優異的光學特性、化學穩定性和機械強度,為微納米制造提供了重要支持。光刻膠的主要成分包括光敏劑、聚合物基質和溶劑。其中,光敏劑是實現圖案化的關鍵成分。在曝光過程中,光敏劑吸收光能并引發化學反應,從而使光刻膠發生物理或化學變化。聚合物基質則提供了光刻膠的機械強度和化學穩定性。溶劑則用于調節光刻膠的黏度和涂覆性能。MicroChem光刻膠的工藝流程通...

      • 2023

        7-23

        3850壓實密度儀是一種常見的實驗室設備,用于測量土壤、礦石和混凝土等材料的壓實密度。在土壤科學、礦石工業、混凝土工程和材料科學等領域有廣泛應用,為相關研究和工程實踐提供了重要的技術支持。3850壓實密度儀工作原理:1.準備工作:根據需要,選擇合適的樣品和模具。通常情況下,樣品是土壤、礦石或混凝土等材料。2.加樣:將待測樣品放入模具中,并確保樣品填充均勻且沒有空隙。3.施加壓力:啟動壓實密度儀,使其施加標準化的壓力到樣品上,壓實樣品。4.測量體積:通過測量樣品在壓實前后的體積...

      • 2023

        5-21

        MicroChem光刻膠是一種可塑性高分子(聚合物)材料,通過紫外線曝光進行化學反應形成圖案。光刻膠通常是涂覆在硅片或其他襯底表面的薄膜,其厚度可以從幾個納米到數百微米不等??涛g過程中,光刻膠起到保護襯底或已刻蝕部分不受刻蝕劑侵蝕的作用,從而形成所需的結構。MicroChem光刻膠類別:MicroChem生產多種類型的光刻膠,包括正/負光刻膠和超臨界流體光刻膠等。其中常用的是正/負光刻膠。正/負光刻膠:正/負光刻膠基于光敏聚合物的化學反應類型不同,可以分為正光刻膠和負光刻膠。...

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